我们在磁控溅射镀膜中经常用到圆柱靶、矩形平面靶、圆形平面靶,不知大家对这三种常用靶的区别有什么高见,比如靶面磁场强度,膜层质量、利用率等有什么观点,欢迎大家积极参加讨论。
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请问磁控溅射镀膜中圆柱靶、矩形平面靶、圆形平面靶有什么区别?
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我想咨询在真空镀膜中如何能更好的防止材料的杂质对膜层的影响?
大家好!我想咨询在真空镀膜中如何能更好的防止材料的杂质对膜层的影响?感谢!???? !!
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氧化锆、氧化铌、氧化钛、氧化钽是镀膜常用的高折射率材料,有经常使用的高手吗?大家讨论讨论它们的性质和使用上哪些不同?
氧化锆、氧化铌、氧化钛、氧化钽是镀膜常用的高折射率材料,有经常使用的高手吗?大家讨论讨论它们的性质和使用上哪些不同?
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请教一个大家:真空镀膜机一次可以镀多少镜片?
请教一个大家:真空镀膜机一次可以镀多少镜片?
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求:al2o3 在镀膜过程中的问题
请问:al2o3 在镀膜过程中需要氧气么,在没氧气的情况下是否可以镀膜,有材料吸收现象么。谢谢大家!
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请教:镀膜后产品膜厚检测
请教:小玻璃片(黄豆大小),有一面镀膜(无色),但是经常会分不清哪面镀了膜,是否有仪器类工具或者方法能够轻松地区分出来,谢谢!
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真空镀膜和光学镀膜有什么区别?
真空镀膜和光学镀膜有什么区别?真空镀膜 主要利用辉光放电(glow discharge)将氩气(Ar)离子撞击靶材(target)表面, 靶材的原子被弹出而堆积在基板表面形成薄膜。溅镀薄膜的性质、均匀度都比蒸镀薄膜来的好,但是镀膜速度却比蒸镀慢很多。新型的溅镀设备几乎...
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如果要求5nm的膜厚,真空镀膜能做到吗?需要多少精度的设备?该用什么机器?
多层金属膜,物理厚度。第一层1000nm铝,第二层250nm氟化镁,最后是5nm的Cr。不知道可以吗?最好是能够连续镀的机器。
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请教镀膜机真空室的门突然炸开!求指导原因!
我们公司一台机器在运行过成中真空室的门突然炸开,机器整体移位,幸好没有什么零件损坏,后来请厂家的工程师来人看了下,他们说是R/P瞬间进气造成的。可我不明白为什么会这样?请问哪位高手有明白的解释吗?说来听听,也能让我明白到底是怎么回事?谢谢!
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请教个问题,为什么有时候镀出来的产品会有灰尘?
请教个问题,为什么有时候镀出来的产品会有水迹、指纹及灰粒?我们镀膜车间也是万级无尘。
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请教一个Film ITO镀膜问题!小白求科普!
1、ITO镀膜时, 氮气、 氧气、 氩气 和混合气体分别起什么作用?(磁控溅射镀膜,靶材为前四靶Si 后两靶ITO)2、消影层结构是怎样的呢?